离子铣削是电子显微镜分析样品制备过程的重要组成部分。这种通用的方法可以去除表面污染，使机械横截面样品平面化，或使电子透明薄片变薄和抛光。
Technoorg Linda致力于25年的不断创新和改进，从而产生优秀，易于使用和可靠的设备。他们的离子研磨解决方案用于各种领域，包括材料科学，生物科学，地质学，以及半导体和光学器件中的多层系统。
快速制备高质量EBSD样品，横断面分析，或原子分辨率成像
通过利用直观的图形界面，以最小的用户干预生成高质量的示例
可变离子源连续调整铣削能量，实现快速和可控细化
Booth液氮和Peltier冷却选项可用于保护热敏性样品
| SEMPrep2 | UniMill | GentleMill | ||
|---|---|---|---|---|
| 离子源 | 超高能量(高达16 keV) | 可选 | 可选 | N/A |
| 高能(高达10 keV) | 标准 | 标准 | N/A | |
| 低能耗(100ev - 2kev) | 标准 | 标准 | 标准 | |
| 铣能源 | 连续可调 | 连续可调 | 连续可调 | |
| 样品阶段 | 倾斜范围 | 0°-30° | 0°-40° | 0°-40° |
| 倾斜增量 | 0.1° | 0.1° | 0.1° | |
| 平面旋转 | 是的 | 是的 | 是的 | |
| 面内振动 | +10°到+40°在10°步骤 | +10°到+60°在10°步骤 | +10°到+60°在10°步骤 | |
| 坡切架类型 | 30°，45°，90° | N/A | N/A | |
| 表面清洁支架类型 | 平头、标准头、空心型 | N/A | N/A | |
| 透射电镜样品厚度范围 | N/A | 30 - 200µm | 30 - 200µm | |
| LN2冷却 | 可选 | 可选 | N/A | |
| 珀尔帖冷却 | 可选 | 可选 | N/A | |
| 真空系统 | 无油隔膜+涡轮分子泵 | |||
| 天然气供应 | 99.999%纯氩 | |||
| 成像系统 | 相机 | 高分辨率(5万像素)彩色CMOS | ||
| 放大 | 50 - 400 x | |||
| 计算机控制 | 接口 | 易于使用的图形界面 | ||
| 自动离子源设置 | 是的 | |||
| 铣削协议 | 自动或手动 | |||
| 自动射孔检测 | N/A | 是的 | 是的 | |
