Unimill
产品特性
一流的离子源
UniMIll有两个独立控制离子源。低能离子源用于温和清洁同时最小化表面损伤和离子束诱导无定形化。高能或可选的超高能离子源可以选择第二离子源。超高能源铣削速度和最高设计用于铣削材料铣削率很低。所有离子枪参数可以控制通过数字反馈回路自动或手动在铣削过程中改变。
自动操作
UniMill可以完全自动化的操作使用一个易于使用的图形用户界面。铣削参数包括电极电压、工作气体流量和样本运动/倾斜可以通过编程来实现,在预先定义的例程。这使得生产的高质量的样品用最小的用户干预。
双重冷却选项
UniMill为不同的应用程序提供了两个不同的冷却方案。珀尔帖冷却过热保护的样本是一个理想的解决方案。然而,如果处理热敏性或低温样品,建议可选的液态氮冷却。
应用程序
UniMill建议开发新材料或新样品制备方法。还建议为研究材料溅射率很低,如钻石、蓝宝石。与低能离子轰击材料的能力,生产无损害样本,研究纳米结构提供了一个机会。